產(chǎn)品分類
- 產(chǎn)品描述
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項目
配置和指標(biāo) 1
工藝腔體和LOAD LOCK 工藝腔體及LOAD LOCK材質(zhì)為304不銹鋼，內(nèi)外電解拋光，前開門，濺射腔體預(yù)留多個法蘭口。 2
系統(tǒng)控制 系統(tǒng)控制柜通過電源分配箱給各部件供電，加熱器配保護(hù)裝置，安全互鎖。計算機(jī)主機(jī)為工控觸摸屏，三級權(quán)限，設(shè)備各模塊運行數(shù)據(jù)、工藝數(shù)據(jù)均可視化。 3
真空系統(tǒng) 真空配置渦旋干泵、分子泵，抽速35m3/h、60 m3/h，工藝極限真空度≤ 3E-8 Torr， LOAD LOCK極限真空度≤ E-7Torr。皮拉尼+寬量程真空計組合測試真空度，量程從大氣到5E-10Torr。 4
磁控濺射沉積源 可選配直流、直流/脈沖、射頻電源及切換開關(guān)。分基片臺A、B，均為可加偏壓懸浮基片臺，A向上濺射、B向下濺射，0-20rpm連續(xù)自傳。 5
工藝控制 工藝腔室膜厚控制精度0.01A/s，膜厚均勻性：≤±5%，加熱溫度RT-600℃，PID控溫精度+/-1度。工藝工裝為8寸平臺，適應(yīng)單wafer，兼容chips，Mask對位。 6
離子源、電子刷、光源和探針 離子源用于基片清洗或輔助沉積，配4CM離子源和一路氣體。自制電子電刷束斑區(qū)域直徑40mm，通過電子掃描進(jìn)行區(qū)域清刷。自制光源用于薄膜表面照射，輔助檢測薄膜透光性。探針在線檢測薄膜因光源產(chǎn)生電子數(shù)及電流方向。 7
設(shè)備支架和工裝 采用鋁型材結(jié)構(gòu)支架，配地輪、地腳。
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