PVD鍍膜設(shè)備
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生產(chǎn)型 高真空磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機（PVD-1000B系列）該設(shè)備采用磁控濺射、離子輔助、反應(yīng)濺射的工藝方法，在工件表面制備各種薄膜材料。該設(shè)備是集成了工件表面處理、離子清洗、顆粒物控制、磁控濺射、離子輔助鍍膜及反應(yīng)濺射鍍膜等工藝方法于一體的PVD設(shè)備。
生產(chǎn)型 TGV/TSV 高真空磁控濺射鍍膜機該設(shè)備用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的鍍膜，深徑比>10:1。例如：用于基板鍍膜工序Cu/Ti微結(jié)構(gòu)，Au/TiW傳輸導線雙體系膜層淀積能力，為微系統(tǒng)集成密度提升提供支撐。
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